特許
J-GLOBAL ID:200903092497897057
光導波路型グレーティングの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
櫛渕 昌之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-234895
公開番号(公開出願番号):特開2003-043284
出願日: 2001年08月02日
公開日(公表日): 2003年02月13日
要約:
【要約】【課題】 リーキーモード結合による損失を抑制することができる光導波路型グレーティングの製造方法を提供する。【解決手段】 基板上にコアを形成する工程(図3e)と、このコア上に厚さ15μm以上の上部クラッドを形成する工程(図3f)と、この上部クラッド上面を平坦化する工程(図3g)と、コアの屈折率を周期的に変化させてグレーティングを形成する工程とを備えた。
請求項(抜粋):
基板上にコアを形成する工程と、このコア上に厚さ15μm以上の上部クラッドを形成する工程と、この上部クラッド上面を平坦化する工程と、コアの屈折率を周期的に変化させてグレーティングを形成する工程とを備えたことを特徴とする光導波路型グレーティングの製造方法。
IPC (3件):
G02B 6/122
, G02B 5/18
, G02B 6/13
FI (3件):
G02B 5/18
, G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
Fターム (14件):
2H047KA04
, 2H047LA02
, 2H047PA04
, 2H047PA05
, 2H047PA30
, 2H047QA04
, 2H047TA11
, 2H049AA02
, 2H049AA06
, 2H049AA37
, 2H049AA44
, 2H049AA51
, 2H049AA59
, 2H049AA62
引用特許:
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