特許
J-GLOBAL ID:200903092510143245

投射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 興作 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-614083
公開番号(公開出願番号):特表2002-543454
出願日: 2000年04月12日
公開日(公表日): 2002年12月17日
要約:
【要約】投射装置は、少なくとも2つの光源、投影レンズ及び前記両光源と前記投影レンズとの間に位置させる少なくとも1個の空間光変調器を具えており、該光変調器は複数の光偏向デバイスを具え、これらの各光偏向デバイスには傾斜軸の周りを傾斜可能な要素が設けられている。それぞれの光源は前記空間光変調器に対して、動作中にこれらの光源から来て、前記光偏向デバイスの前記各要素上に投影される光ビームの中心が、これらの各要素の前記傾斜軸に対してほぼ平行に延在する投影線上に位置付けられるように配置する。
請求項(抜粋):
少なくとも2つの光源、投影レンズ及び前記両光源と前記投影レンズとの間に位置させる少なくとも1個の空間光変調器を具えており、該光変調器が複数の光偏向デバイスを具え、これらの各光偏向デバイスには傾斜軸の周りを傾斜可能な要素が設けられており、これらの要素の傾斜軸が互いに平行に延在するようにした投射装置において、前記光源を、動作中にこれらの光源から来て、前記光偏向デバイスの前記各要素上に投影される光ビームの中心が、これらの各要素の前記傾斜軸に対してほぼ平行に延在する投影線上に位置付けられるように、前記空間光変調器に対して配置するようにしたことを特徴とする投射装置。
IPC (4件):
G02B 26/08 ,  G02B 27/18 ,  G03B 21/00 ,  G03B 21/14
FI (5件):
G02B 26/08 E ,  G02B 27/18 Z ,  G03B 21/00 F ,  G03B 21/14 A ,  G03B 21/14 Z
Fターム (4件):
2H041AA12 ,  2H041AB14 ,  2H041AC06 ,  2H041AZ00
引用特許:
審査官引用 (6件)
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