特許

J-GLOBAL ID：200903092510409237

露光方法、露光装置およびそれに用いるフォトマスク

発明者： 岡本 好彦
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-128983
公開番号（公開出願番号）：特開平5-326367
出願日： 1992年05月21日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：

【要約】【目的】 半導体集積回路装置の製造工程の一工程である露光処理の際に生じる投影レンズの結像面の弯曲歪に起因する焦点ぼけを抑制する。【構成】 露光光源2から放射された光をレチクル12および縮小投影レンズ13を介して半導体ウエハ3上のフォトレジスト膜に照射することにより、レチクル12上の所定パターンを半導体ウエハ3上のフォトレジスト膜に転写する露光処理の際に、半導体ウエハ3の主面上に投影されるレチクル12上の半導体集積回路パターンの像の像面歪が補正されるようにレチクル12を歪ませた状態で露光する。

請求項（抜粋）：

フォトマスクに照射した光の透過光を投影光学系を介して試料に照射することにより、前記フォトマスク上に形成された所定パターンを、前記試料に転写する際に、前記試料に投影される前記所定パターンの像の像面歪が補正されるように、前記フォトマスクを歪ませた状態で露光することを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 N