特許

J-GLOBAL ID：200903092519831705

モールド、パターン転写装置、及びパターン形成方法

発明者： 関 淳一 ,  末平 信人 ,  真島 正男
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-119766
公開番号（公開出願番号）：特開2009-184361
出願日： 2009年05月18日
公開日（公表日）： 2009年08月20日
要約：

【課題】新規な手法によりサイズ補正をすることができるモールド及び該モールドを有する装置を提供する。【解決手段】モールドまたは該モールドを有する装置であって、凹凸パターンが形成されている第1の面1050と、該モールドの厚さ方向に関して、該第1の面と反対側にある第2の面1055とを有するモールド2000を備え、 且つ該第2の面に、あるいは該第1の面と該第2の面との間に設けられており、該凹凸パターンを該第1の面の面内方向に変形させるためのサイズ調整部材2010、を有する構成とする。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

モールドであって、 凹凸パターンが形成されている第1の面と、 該モールドの厚さ方向に関して、該第1の面と反対側にある第2の面と、 該第2の面に、あるいは該第1の面と該第2の面との間に設けられている発熱体と、 を有することを特徴とするモールド。

IPC (5件)：

B29C 59/02 ,  B29C 59/00 ,  B29C 33/38 ,  B29C 33/02 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

B29C59/02 B ,  B29C59/00 J ,  B29C33/38 ,  B29C33/02 ,  H01L21/30 502D

Fターム (26件)：

4F202AJ09 ,  4F202CA09 ,  4F202CA19 ,  4F202CB29 ,  4F202CB30 ,  4F202CD23 ,  4F202CD27 ,  4F202CD30 ,  4F202CN17 ,  4F202CN27 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AR02 ,  4F209AR06 ,  4F209AR12 ,  4F209AR16 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN03 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  4F209PQ12 ,  5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 室温かつ低圧マイクロおよびナノ転写リソグラフィのためのテンプレート
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-566722   出願人：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
• 金 型
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-019535   出願人：日立工機株式会社
• 樹脂成形装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-083168   出願人：株式会社サイネックス