特許

J-GLOBAL ID：200903092520943142

高分子化合物の主鎖切断方法

発明者： 市川 恒樹 ,  上田 豊稔 ,  小泉 均
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-087573
公開番号（公開出願番号）：特開2000-284481
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【解決手段】 高分子化合物の主鎖の途中に解離性電子付着により切断が生じるエステル基を導入して、この高分子化合物に電離放射線を照射し、上記エステル基導入部分で上記高分子化合物の主鎖を切断することを特徴とする高分子化合物の主鎖の切断方法。【効果】 本発明によれば、高分子化合物の主鎖を容易に切断することができる。

請求項（抜粋）：

高分子化合物の主鎖の途中に解離性電子付着により切断が生じるエステル基を導入して、この高分子化合物に電離放射線を照射し、上記エステル基導入部分で上記高分子化合物の主鎖を切断することを特徴とする高分子化合物の主鎖の切断方法。

IPC (2件)：

G03F 7/039 ,  C08G 63/91

FI (2件)：

G03F 7/039 ,  C08G 63/91

Fターム (16件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC07 ,  2H025AD01 ,  2H025BF29 ,  4J029AA01 ,  4J029AA07 ,  4J029AA08 ,  4J029AA09 ,  4J029AB07 ,  4J029KD11 ,  4J029KD13 ,  4J029KH03 ,  4J029KH08