特許
J-GLOBAL ID：200903092522630656
光ディスク原盤記録装置および光ディスク原盤記録方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-055004
公開番号（公開出願番号）：特開平11-259902
出願日： 1998年03月06日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：
【要約】【課題】 光ディスク原盤に高精度かつ超高密度に信号を記録することができる光ディスク原盤記録装置および光ディスク原盤記録方法を提供する。【解決手段】 本発明の光ディスク原盤記録装置の対物レンズ系80aは、PFL82の焦点調節を行うフォーカスサーボ系10と、フォーカスサーボ系10の制御を行う制御系11と、PFL 82とSIL 14の光軸合わせ調整を行う非点収差検出系90とを有する。フォーカスサーボ系10は、PFL 82の焦点調節を行うフォーカスアクチュエータ12と、PFL 82を支持するPFL ホルダ13と、SIL 14の位置制御を行うSIL 位置調整部15とを有する。フォーカスアクチュエータ12は、制御系11からの指示に応じてPFL 82とSIL 14を一体に光軸方向に移動制御する。SIL 位置調整部15は、動圧浮上ヘッド16に固定されたSIL 14の浮上量を任意に調整する。
請求項（抜粋）：
レジスト塗布された光ディスク原盤を回転させた状態で、前記光ディスク原盤のレジスト塗布面に対して、記録信号に応じたレーザ光を照射して露光記録を行う光ディスク原盤記録装置において、前記レーザ光を集光させるプリフォーカスレンズと、前記プリフォーカスレンズにより集光されたレーザ光を、予め定めた基準面にさらに集光させるエバネッセント波を発生可能なレンズと、前記基準面でのビームスポット径と略同径のビームスポット径で露光記録を行えるように、前記光ディスク原盤のレジスト塗布面と前記エバネッセント波を発生可能なレンズとの距離を調整するギャップ調整手段と、前記プリフォーカスレンズを通過したレーザ光が前記基準面に結像するように、前記プリフォーカスレンズの焦点調節を行う焦点調節制御手段と、前記プリフォーカスレンズと前記エバネッセント波を発生可能なレンズとの光軸合わせ調整を行う光軸合わせ調整手段と、を備え、前記基準面は、前記エバネッセント波を発生可能なレンズの底面であり、前記ギャップ調整手段は、前記エバネッセント波を発生可能なレンズの底面から漏れ出すエバネッセント波が減衰しない程度の距離に前記光ディスク原盤のレジスト塗布面が配置されるように、前記エバネッセント波を発生可能なレンズの位置決めが可能であることを特徴とする光ディスク原盤記録装置。
IPC (2件)：
G11B 7/135
, G11B 7/26 501
G11B 7/135 Z
, G11B 7/26 501
