特許
J-GLOBAL ID：200903092530643473
近接露光装置のギャップセンサ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-188608
公開番号（公開出願番号）：特開平6-005486
出願日： 1992年06月22日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：
【要約】【目的】 パーティクルを発生させず、計測処理時間を短縮し、さらにギャップを正確に計測する近接露光装置のギャップセンサを提供する。【構成】 基板5とマスク6とが、近接して保持されている状態で、基板5の下方にある発光部1から光を照射し、基板5の上面とマスク6の下面とで反射した各反射光を基板5の下方にある受光部2で受光する。ギャップ検出制御部3は、受光部2で受光した各反射光の受光位置を検出し、受光位置の幅からギャップを算出して、装置制御部4に算出結果を転送する。この算出結果に基づいて、装置制御部4は、各アクチュエータ7をZ方向に駆動して、ギャップの微調整を行う。
請求項（抜粋）：
所要のパターンが描画されたマスクを保持するマスク保持手段と、前記マスク保持手段によって保持された前記マスクに対してその下方から、感光剤を表面に塗布した薄板状の透光性基板を平行にかつ相対的に近接させて保持する透光性基板移動保持手段と、前記マスク保持手段によって保持された前記マスクを介してその上方から、前記透光性基板移動保持手段によって保持された前記透光性基板に塗布した感光剤を露光して、前記マスクのパターンを感光剤に焼き付ける露光光学手段と、を備えた近接露光装置において、前記透光性基板の下方から光を照射する発光手段と、前記発光手段から照射された光の内、前記透光性基板の上面と前記マスクの下面とでそれぞれ反射された反射光を、前記透光性基板の下方で受光する受光手段と、前記受光手段で受光した各反射光の受光データに基づいて、各反射光の受光位置を検出し、検出した受光位置から前記透光性基板と前記マスクとの間のギャップを計算するギャップ算出手段と、を備えたことを特徴とする近接露光装置のギャップセンサ。
IPC (2件)：
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