特許
J-GLOBAL ID:200903092533366560
第4級アンモニウム基を有する無機粉体の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-025444
公開番号(公開出願番号):特開2005-213127
出願日: 2004年02月02日
公開日(公表日): 2005年08月11日
要約:
【課題】 表面に第4級アンモニウム基を有する無機粉体の製造において、粒子間の凝集や着色なく効率よく得る。 【解決手段】 1,3,5,7-テトラキス(4-ブロモブチル)-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7-テトラキス(4-クロロブチル)-1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン等の(A)下記一般式(1)(式中、R1は炭素数1〜10の1価の炭化水素基、R2は炭素数3〜10の2価の炭化水素基、Xはハロゲン原子であり、nは3〜6の整数、好ましくは3又は4である)で表される環状シロキサン化合物を用いて無機粉体を処理する工程、及び(B)該環状シロキサン処理された無機粉体と第3級アミン化合物(R’3N;R’は各々独立に有機基)とを接触させることにより、無機粉体と結合させた-R2-Xを-R2-N+(R’)3・X-へと変換する。 【選択図】 なし
請求項(抜粋):
(A)下記一般式(1)
IPC (4件):
C01B33/18
, C01B13/14
, C09C1/00
, C09C3/12
FI (4件):
C01B33/18 E
, C01B13/14 A
, C09C1/00
, C09C3/12
Fターム (24件):
4G042DA01
, 4G042DB28
, 4G042DC03
, 4G072AA25
, 4G072BB05
, 4G072HH14
, 4G072HH28
, 4G072JJ42
, 4G072QQ06
, 4G072UU30
, 4J037AA11
, 4J037AA18
, 4J037AA22
, 4J037AA24
, 4J037AA27
, 4J037CB16
, 4J037CB23
, 4J037EE02
, 4J037EE08
, 4J037EE28
, 4J037EE43
, 4J037EE47
, 4J037EE48
, 4J037FF15
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
消泡剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-311767
出願人:東芝シリコーン株式会社
-
カラム充填剤及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-072165
出願人:株式会社資生堂
審査官引用 (5件)
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