特許

J-GLOBAL ID：200903092535136545

アミン類の製造方法

発明者： 渕上 高正 ,  五十嵐 庸
出願人/特許権者： 財団法人相模中央化学研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-301623
公開番号（公開出願番号）：特開2001-122833
出願日： 1999年10月22日
公開日（公表日）： 2001年05月08日
要約：

【要約】【課題】 医薬品の原料、溶媒、触媒、配位子等に幅広く利用される有用な化合物であるアミン類の製造方法を提供する。【解決手段】 一般式R-(C=O)-NR1R2で示されるアミド類と一般式H-SiR3R4R5で示されるヒドロシラン類とを、第7〜10族遷移金属触媒の存在下に反応させることからなる、一般式R-CH2-NR1'R2'で示されるアミン類の製造方法。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)R-(C=O)-NR1R2 (I)(式中、Rは、アルキル基、芳香族基、または水素原子を表す。また、R1、およびR2は、それぞれ独立にアルキル基、芳香族基、シリル基、または水素原子を表す。また、それらのうち二つが一体となって結合している炭素原子および窒素原子とともに環を形成していてもよい。)で示されるアミド類と、下記一般式(II)H-SiR3R4R5 (II)(式中、R3、R4、およびR5はそれぞれ独立にアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、またはハロゲン原子を表す。)で示されるヒドロシラン類とを、第7〜10族遷移金属触媒の存在下に反応させることを特徴とする、下記一般式(III)R-CH2-NR1'R2' (III)(式中、Rは上記と同一である。また、式中、R1および/またはR2が水素原子の場合は、対応するR1'および/またはR2'はSiR3R4R5であり、そのほかの場合はR1'はR1と同一であり、R2'はR2と同一である。)で示されるアミン類の製造方法。

IPC (8件)：

C07C209/68 ,  B01J 31/12 ,  C07C211/03 ,  C07C211/48 ,  C07C211/54 ,  C07D295/02 ,  C07F 7/10 ,  C07B 61/00 300

FI (8件)：

C07C209/68 ,  B01J 31/12 X ,  C07C211/03 ,  C07C211/48 ,  C07C211/54 ,  C07D295/02 Z ,  C07F 7/10 F ,  C07B 61/00 300

Fターム (32件)：

4H006AA02 ,  4H006AB84 ,  4H006AC11 ,  4H006AC52 ,  4H006BA16 ,  4H006BA17 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA23 ,  4H006BA24 ,  4H006BA25 ,  4H006BA26 ,  4H039CA71 ,  4H039CA92 ,  4H039CB20 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ39 ,  4H049VQ59 ,  4H049VR23 ,  4H049VR51 ,  4H049VS02 ,  4H049VT15 ,  4H049VT16 ,  4H049VT17 ,  4H049VT30 ,  4H049VU31 ,  4H049VU33 ,  4H049VU36 ,  4H049VW02