特許

J-GLOBAL ID：200903092544544869

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 奥田 康彦 ,  澤田 敦史 ,  小松原 正二
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 稲岡 耕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-103552
公開番号（公開出願番号）：特開平10-294302
出願日： 1997年04月21日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：

【要約】【課題】基板をスクラブ洗浄するための部材に対する作業者の負担を大幅に軽減することができ、しかもコスト低下を図ることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】ウエハ保持装置によってウエハが保持されていない場合に、ウエハの上面および下面をスクラブ洗浄するための各洗浄部60,80のうち上面洗浄部60を回転させ、かつノズル7,8から洗浄液を吐出させた状態で各洗浄部60,80を互いに近接させ、洗浄ブラシ66,86の接触面66a ,86a を接触させる。その結果、接触面66a ,86a は擦り合わされるから、洗浄ブラシ66,86に付着していたスラリーなどの異物が浮き上がる。浮き上がった異物は、各洗浄部60の回転によって洗浄ブラシ66,86の外部に吐き出される。これにより、洗浄ブラシ66,86を洗浄できる。また、洗浄液は吐出され続けているから、洗浄ブラシ66,86は膨潤し柔らかくなる。

請求項（抜粋）：

基板保持手段に保持されるべき基板の一方面をスクラブ洗浄するための第1スクラブ洗浄手段と、上記基板保持手段に保持されるべき基板を挟んで上記第1スクラブ洗浄手段に対向して配置され、上記基板保持手段に保持されるべき基板の他方面をスクラブ洗浄するための第2スクラブ洗浄手段と、上記第1スクラブ洗浄手段および第2スクラブ洗浄手段のうち少なくともいずれか一方を他方に対して近接/離反させるための移動手段と、上記第1スクラブ洗浄手段および第2スクラブ洗浄手段のうち少なくともいずれか一方を自転させるための回転手段と、上記基板保持手段に基板が保持されていない期間において、上記第1スクラブ洗浄手段と第2スクラブ洗浄手段とが互いに接触するように上記移動手段の動作を制御するとともに、上記回転手段の動作を制御する制御手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。