半導体ウエハー収納カセツト保管容器と半導体ウエハー処理装置とのインターフエースシステム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：内原晋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-214901
公開番号（公開出願番号）：特開平5-055344
出願日： 1991年08月27日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：

【要約】【目的】半導体ウェハー収納カセットを保管容器に収納し運搬する際半導体ウェハーの大気にさらされる時間を少なくすることによってその表面が酸化されたり、重金属汚染を浮けたり、また塵埃が付着することを防止する。【構成】半導体ウェハー収納カセット保管容器1は底部1aと蓋部1bの2つの部分により構成される密閉容器とし、また半導体ウェハー処理装置は蓋部1bと○リング4bにより真空シールされるロードロック室6を有し、その内部に底部1aを支持するステージ11と、ステージ11を移動させる直線運動機構12と、底部1aを蓋部1bに対して押しつけるベローズシリンダー16a,16bからなるロック機構とを備えている。

請求項（抜粋）：

半導体ウェハー収納カセット保管容器と半導体ウェハー処理装置とのインターフェースシステムにおいて、前記半導体ウェハー収納カセット保管容器は、半導体ウェハー収納カセットを載せる底部と、この底部と共に内部を真空シールする蓋部との2つ部分により構成され、また、前記半導体ウェハー処理装置は、前記半導体ウェハー収納カセット保管容器の蓋部を載せて真空シールされる開口部を持つ真空室と、この真空室の内部に前記半導体ウェハー収納カセット保管容器の底部を支持する支持部と、この支持部を上下方向へ移動させるための直線運動機構と、前記底部を前記蓋部に対して押しつけるロック機構とを備えていることを特徴とする半導体ウェハー収納カセット保管容器と半導体ウェハー処理装置とのインターフェースシステム。

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