特許
J-GLOBAL ID：200903092552105017
有機膜真空蒸着用マスク再生方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-095809
公開番号（公開出願番号）：特開2000-282219
出願日： 1999年04月02日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：
【要約】【課題】 有機膜真空蒸着法においてマスクに付着した有機膜を容易に除去することができる有機膜真空蒸着用マスク再生方法を提供する。【解決手段】 マスクを用いた有機膜真空蒸着により前記マスクに付着した有機膜を除去するマスクの再生方法において、前記マスクに付着した有機膜を加熱処理により真空を破らずに除去する有機膜真空蒸着用マスク再生方法。
請求項（抜粋）：
マスクを用いた有機膜真空蒸着により前記マスクに付着した有機膜を除去するマスクの再生方法において、前記マスクに付着した有機膜を加熱処理により真空を破らずに除去する事を特徴とする有機膜真空蒸着用マスク再生方法。
Fターム (3件)：
4K029BA62
, 4K029DA09
, 4K029HA01
