特許
J-GLOBAL ID:200903092553291841
沿面放電電極およびこれを用いたガス処理装置、ガス処理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 正武 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-095555
公開番号(公開出願番号):特開2003-290623
出願日: 2002年03月29日
公開日(公表日): 2003年10月14日
要約:
【要約】【課題】 プラズマとガスとの接触効率を向上し、ガス処理効率に優れる沿面放電電極およびこれを用いたガス処理装置、ガス処理方法を提供する。【解決手段】 接地電極11と、絶縁体12と、表面電極13、13とを備え、表面電極13の表面に対して垂直方向に、複数の貫通孔14、14、...が互いに平行に形成されている沿面放電電極。電極集合体20において、沿面放電電極10aの貫通孔14と沿面放電電極10bの貫通孔14が、異なる位置に配置されているガス処理装置。電極集合体20において、貫通孔14の長手方向が、被処理ガスの進行方向と角度0°〜60°をなして傾いている。沿面放電電極10a、10b、10cの表面および貫通孔14内に非平衡プラズマを発生させ、被処理ガスを沿面放電電極10a、10b、10cの表面および貫通孔14内に沿って流し、被処理ガスを非平衡プラズマと反応させるガス処理方法。
請求項(抜粋):
接地電極と、該接地電極を包囲する絶縁体と、該絶縁体を挟持するように対向して積層された一対の表面電極とを備えた沿面放電電極であって、該沿面放電電極には、複数の貫通孔が形成されていることを特徴とする沿面放電電極。
IPC (7件):
B01D 53/60
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/70
, B01D 53/74
, B01J 19/08
, G21F 9/02
, H05H 1/46
FI (6件):
B01J 19/08 E
, G21F 9/02 Z
, H05H 1/46 M
, B01D 53/34 132 A
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/34 134 E
Fターム (13件):
4D002AA02
, 4D002AA12
, 4D002AA21
, 4D002AC04
, 4D002BA07
, 4D002CA20
, 4D002HA01
, 4G075AA03
, 4G075BA01
, 4G075BA05
, 4G075CA15
, 4G075CA47
, 4G075EC21
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