特許

J-GLOBAL ID：200903092556278684

金属パターン形成用有機金属化合物及びこれを用いた金属パターン形成方法

発明者： 鄭 源 哲 ,  張 碩 ,  ▲こう▼ 淳 澤 ,  邊 ▲えい▼ 勳
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-373621
公開番号（公開出願番号）：特開2003-286579
出願日： 2002年12月25日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：

【要約】【課題】 露光によって電気伝導性金属パターンを容易に形成することが可能な有機金属化合物を提供すること。【解決手段】 MmLnL'oXp(式中、MはAg、Au、Co、Cu、Pd、Ni、Pt、Zn及びCdからなる群より選ばれる1種の遷移金属、LおよびL’は特定構造の有機配位子、Xは陰イオン性配位子で、mは1〜10の整数、nは1〜10の整数、oは0〜10の整数、pは0〜10の整数である。)で示される金属パターン形成用有機金属化合物である。本発明の有機金属化合物を構成する有機配位子は、光に敏感であって露光の時に中心金属から容易に分離されて分解される特性があるため、金属パターン形成時に別途の感光性樹脂塗布工程及びエッチング工程を必要とせず、パターンニング時間の短縮ができる。

請求項（抜粋）：

下記化学式(1)で表わされる金属パターン形成用有機金属化合物。【化1】(式中、MはAg、Au、Co、Cu、Pd、Ni、Pt、Zn及びCdからなる群より選ばれる1種の遷移金属、Lは下記化学式(2)または(3)で表わされる有機配位子、L’はアミン、チオール、セレノール及びホスフィンからなる群より選ばれた有機配位子、Xはハロゲノ(halogeno)、ヒドロキソ(hydroxo: OH-)、シアノ(cyano: CN-)、ニトロシル(nitrosyl: NO-)、ニトリト(nitrito: NO2-)、ニトラト(nitrato: NO3-)、アジド(azido: N3-)、チオシアナト(thiocyanato)、イソチオシアナト(isothiocyanato)、テトラアルキルボラト(tetraalkoxyborato)、テトラハロボラト(tetrahaloborato)、ヘキサフルオロポスファト(hexafluorophosphato: PF6-)、トリフラト(triflato: CF3SO3-)、トシラト(Tosylato: Ts-)、スルファト(Sulfato: SO42-)、及びカルボナト(carbonato: CO32-)からなる群より選ばれた陰イオン性配位子をそれぞれ示し、mは1〜10の整数、nは1〜10の整数、oは0〜10の整数、pは0〜10の整数である。)【化2】(式中、R1及びR2はそれぞれ炭素数1〜20の直鎖状、分枝状もしくは環状アルキル基、アルケニル基もしくはアルキニル基、またはアリール基である。)【化3】(式中、R3及びR4はそれぞれ水素原子、または炭素数1〜5の直鎖状または分枝状アルキル基であり、yは2〜10の整数である。)

IPC (6件)：

C23C 18/20 ,  G03F 7/004 531 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027 ,  C07C321/14 ,  C07F 1/10

FI (6件)：

C23C 18/20 A ,  G03F 7/004 531 ,  G03F 7/20 501 ,  C07C321/14 ,  C07F 1/10 ,  H01L 21/30 502 D

Fターム (39件)：

2H025AA19 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BB00 ,  2H025BH01 ,  2H025FA15 ,  2H025FA29 ,  2H025FA39 ,  2H097CA12 ,  2H097FA06 ,  2H097FA10 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  2H097LA20 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H048AA01 ,  4H048AB76 ,  4H048VA40 ,  4H048VA42 ,  4H048VA57 ,  4H048VB10 ,  4H048VB90 ,  4K022AA02 ,  4K022AA03 ,  4K022BA01 ,  4K022BA31 ,  4K022BA33 ,  4K022CA12 ,  4K022CA22 ,  4K022CA26 ,  4K022DA03 ,  4K022DB05 ,  4K022EA03 ,  5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭62-263973号公報
  
• 米国特許第5,064,685号明細書
  
• 米国特許第5,534,312号明細書
  

審査官引用 (4件)

• 基板を選択的に金属被覆する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-105013   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 特開昭58-074656
  
• パターン化された被膜を含む金属を直接堆積させる方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-515606   出願人：サイモンフレイザーユニバーシティー
• 新規なスルホニウム塩及びこれを用いた感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-095752   出願人：新日本製鐵株式会社, 新日鐵化学株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Inorganica Chimica Acta, 19960801, 249(1), p.69-77