特許

J-GLOBAL ID：200903092560025251

洗浄装置

発明者： 鬼頭 綱範 ,  占部 孝之 ,  桶谷 大亥
出願人/特許権者： シヤープ株式会社
代理人 (1件)： 西教 圭一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-173975
公開番号（公開出願番号）：特開平5-015857
出願日： 1991年07月15日
公開日（公表日）： 1993年01月26日
要約：

【要約】【目的】 対象物に対する洗浄能力を向上できると共に対象物に洗浄する洗浄部材が汚損される事態を防止する洗浄装置を提供することである。【構成】 洗浄液供給装置32からチューブ31a〜31dを介して、カバー14で被覆された回転体19の液溜め溝23内に洗浄液が供給される。洗浄液の一部は外壁22を越えて、カバー14との間を下方へ落下する。液溜め溝23の残余の洗浄液は、透孔25a〜25dを介してワーク12上に落下し、ブラシ15中を通過して半径方向外方に拡散する。

請求項（抜粋）：

回転軸線まわりに回転駆動され、軸線方向一方側端部における回転中心位置付近以外の範囲に洗浄部材が装着され、他方側端部から前記一方側端部に亘り、前記回転中心位置付近の範囲内部に開口する透孔が形成される回転部材と、回転部材を外囲して回転自在に保持し、前記洗浄部材側が開口し、かつ回転部材の前記他方端部に向けて洗浄液を供給する洗浄液供給部材が設けられるカバー部材とを含むことを特徴とする洗浄装置。

IPC (3件)：

B08B 1/04 ,  H01L 21/304 341 ,  H05K 3/26