基板処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-363974
公開番号（公開出願番号）：特開2002-237513
出願日： 1994年12月07日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】【課題】基板処理装置において、スループットを向上させる。【解決手段】連続プロセス処理を行うための処理部ID,SC,...のうち所定の処理部により処理部群20,40,50が構成される。これらのうち処理部群20においてレジスト塗布処理が行われ,処理部群40,50において現像処理が行われる。インデクサIDからレジスト塗布処理を行う処理部群20を経てインターフェイスIFまでの基板の搬送を担当する搬送ロボットと、インターフェイスIFから現像処理を行う処理部群40(50)を経てインデクサIDまでの基板の搬送を担当する搬送ロボットとが設けられている。各搬送ロボットが移動する処理部の数(ポジション数)が減り、各搬送ロボットが一周するのに要する時間が短縮され、その結果スループットを向上させることができる。

請求項（抜粋）：

基板を複数の処理部の間で搬送して該基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、未処理基板の取り出しおよび処理済み基板の収容を行うインデクサと、前記インデクサから取り出された未処理基板に対してレジスト塗布処理が行われる第1処理部群と、レジスト塗布処理が行われた基板を外部装置に渡すとともに、前記外部装置での露光処理が行われた基板を前記外部装置から受け取るインターフェイスと、前記露光処理が行われた基板に対して現像処理が行われる第2処理部群と、未処理基板を前記インデクサから前記第1処理部群を経て前記インターフェイスにレジスト塗布処理が行われた基板として渡すまでの基板の搬送を担当するレジスト処理用搬送ロボットと、露光処理が行われた基板を前記インターフェイスから前記第2処理部群を経て前記インデクサに処理済み基板として戻すまでの基板の搬送を担当する現像処理用搬送ロボットと、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , G03F 7/16 502 , H01L 21/02 , H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/68 A , G03F 7/16 502 , H01L 21/02 Z , H01L 21/30 562

Fターム (36件)：

2H025AB16 , 2H025EA05 , 2H025EA10 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA12 , 5F031FA14 , 5F031GA02 , 5F031GA04 , 5F031GA06 , 5F031GA42 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031HA59 , 5F031JA01 , 5F031LA12 , 5F031MA02 , 5F031MA03 , 5F031MA06 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031MA30 , 5F031NA18 , 5F031PA04 , 5F031PA06 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046CD06 , 5F046JA04 , 5F046JA22 , 5F046KA04 , 5F046LA18

引用特許：

審査官引用 (3件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-343898 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平4-311026
特開平4-311026

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