特許
J-GLOBAL ID:200903092577202718
防汚性被膜の形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡辺 秀夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-270691
公開番号(公開出願番号):特開平6-071219
出願日: 1992年08月28日
公開日(公表日): 1994年03月15日
要約:
【要約】【目的】 合成樹脂エマルジョン被膜の汚れをコロイド珪酸の薄膜により防止する方法を提供する。【構成】 ガラス転移点が30°C以下の合成樹脂水性エマルジョンと顔料とからなり臨界顔料容積濃度以下の被覆用組成物を基材に被覆して形成した乾燥被膜の上に、平均粒子径が100nm以下のコロイド珪酸の水性分散液を塗布して被膜の表面にコロイド珪酸被膜を形成することを特徴とする、防汚性被膜の形成方法である。
請求項(抜粋):
ガラス転移点が30°C以下の合成樹脂水性エマルジョンと顔料とからなり臨界顔料容積濃度以下の被覆用組成物を基材に被覆して形成した乾燥被膜の上に、平均粒子径が100nm以下のコロイド珪酸の水性分散液を塗布して被膜の表面にコロイド珪酸被膜を形成することを特徴とする、防汚性被膜の形成方法。
IPC (4件):
B05D 5/00
, B05D 1/36
, B05D 7/24 301
, B05D 7/24 302
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