特許

J-GLOBAL ID：200903092594642330

研磨組成物

発明者： デリル ディー.ジェイ.オールマン ,  ウィリアム ジェイ.クロスビー ,  ジェイムズ エイ.マイオロ
出願人/特許権者： シンバイオス・ロジック・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 西山 善章 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-344898
公開番号（公開出願番号）：特開平9-285956
出願日： 1996年12月25日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：

【要約】【課題】 研磨活性及び消費レートが改善されていて、平坦で欠陥のない表面を得ることができる研磨組成物を提供する。【解決手段】 基体の研磨用研磨組成物であって、研磨メディア粒子と、この研磨メディア粒子を懸濁させてテンポラリー・フィルムを前記基体上に形成するためのフィルム形成バインダと、を含有する。このテンポラリー・フィルムは、その後に行われる研磨洗浄において溶解可能であり、これにより、研磨メディア粒子が解放されて前記基板が研磨されるようになっている。好ましくは、研磨組成物は、前記研磨メディア粒子を前記フィルム形成バインダに懸濁させることで前記テンポラリー・フィルムの形成を容易化する溶媒を含有する。

請求項（抜粋）：

基体の研磨用研磨組成物であって、この組成物は、研磨メディア粒子と、前記研磨メディア粒子を懸濁させてテンポラリーフィルムを前記基体上に形成するためのフィルム形成バインダと、を含有し、前記テンポラリーフィルムは、その後に行われる研磨洗浄において溶解可能であり、これにより、研磨メディア粒子が解放されて前記基板が研磨されることを特徴とする研磨組成物。