特許
J-GLOBAL ID：200903092594701930
マスクパターンとワーク直線部の位置合わせ方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長澤 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-199503
公開番号（公開出願番号）：特開平8-288210
出願日： 1995年08月04日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：
【要約】【課題】 ワークの直線部と露光パターンの位置合わせを、簡単なセンサを用いて自動的に精度よく行うこと。【解決手段】 2か所(または3か所)の透光部を持つアライメント・マークMDをマスクM上に印し、照明系11より光を照射する。また、ワーク直線部(オリフラ部OF)が上記透光部を通過した2(または3)つの光を遮光しないようにワークWをワークステージ2に載置し、ワークWをそのエッジに略直交する方向に直線移動させ、2(または3)つの光検出手段によって上記透光部を通過した光を検出する。そして、上記検出信号が遮断されたときのワークステージの位置を記憶し、記憶された位置および上記透光部間の距離からワーク直線部(オリフラ部OF)の傾き(および位置)を求め、アライメント・マークMDに対するワーク直線部(オリフラ部OF)の傾き(または位置)を修正する。
請求項（抜粋）：
2箇所の透光部を有しマスクパターンと所定の位置関係にあるマスク上のアライメント・マークに、光照射部より露光光もしくは非露光光を照射し、ワークのオリエンテーションフラット部が上記透光部を通過した2つの光を遮光しないようにワークステージにワークを載置し、2つの光検出手段によって上記2つの透光部およびオリエンテーションフラット部近傍を通過した光をそれぞれ検出して検出信号を出力させ、上記オリエンテーションフラット部が前記透光部を通過した2つの光を遮光する方向に上記ワークステージを直線移動させ、一方の検出信号が遮断されたときのワークステージの第1の位置を記憶し、次に、他方の検出信号が遮断されたときのワークステージの第2の位置を記憶し、上記第1の位置、第2の位置、および、前記2つの透光部間の距離のデータを演算して、オリエンテーションフラット部と前記アライメント・マークの2つの透光部を結ぶ直線とがなす角度を算出し、上記角度のデータにより、前記オリエンテーションフラット部と上記直線が平行になるようにワークステージを移動させることを特徴とするマスクパターンとワーク直線部の位置合わせ方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 520
, G03F 9/00 H
