自動図形処理装置,自動図形処理方法及びマスクデータ処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡本啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-161346
公開番号（公開出願番号）：特開平7-078191
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：

【要約】【目的】本発明は自動図形処理装置及びマスクデータ処理装置に関し、被配置図形群の最外周に囲まれた被配置図形対象の抽出方法を工夫して、データ上で被配置図形対象間の配置関係を確認すること、及び、それを応用した装置の高速データ処理を図ることを目的する。【構成】自動図形処理装置は、記憶手段11,図形配置手段12及び制御手段13を具備し、複数の図形が集合されて成る被配置図形群14の配置条件に基づいて、二以上の被配置図形群14を任意の領域に配置する際に、図形配置手段12が被配置図形群14の最外周輪郭情報を抽出し、最外周輪郭情報により囲まれる被配置図形対象14Aの寸法座標を算出することを含み構成し、マスクデータ処理装置は、自動図形配置手段16,データ変換手段17及び記憶手段18を具備し、当該図形配置手段16が本発明の自動図形処理装置から成り、被配置LSIパターンの設計データD1に基づいて複数のLSI図形を自動配置し、それを露光データD2にフォーマット変換することを含み構成する。

請求項（抜粋）：

複数の図形が集合されて成る被配置図形群(14)に係る各種データ(D1,D3)を記憶する記憶手段(11)と、前記被配置図形群(14)の配置条件に基づいて、二以上の被配置図形群(14)を任意の領域に配置する図形配置手段(12)と、前記記憶手段(11)及び図形配置手段(12)の入出力を制御する制御手段(13)とを具備し、前記図形配置手段(12)が被配置図形群(14)の最外周輪郭情報を抽出し、前記最外周輪郭情報により囲まれる被配置図形対象(14A)の寸法座標を算出することを特徴とする自動図形処理装置。

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