特許

J-GLOBAL ID：200903092606312366

光学シートの製造方法

発明者： 山下 一 ,  阿部 良夫
出願人/特許権者： 株式会社クラレ
代理人 (1件)： 特許業務法人田治米国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-313876
公開番号（公開出願番号）：特開2009-139493
出願日： 2007年12月04日
公開日（公表日）： 2009年06月25日
要約：

【課題】表面に複数の溝が並設されている透光性基材シートの該溝に遮光性材料を充填し、余分な遮光性材料を掻き取ることによりパターン状に遮光部を並設させた光学シートを製造するにあたり、アスペクト比の高い遮光部を有する光学シートを高い生産性で製造する。【解決手段】表面に複数の溝15が並設されている透光性基材シート10の該溝15の並設面に遮光性材料を塗布し、溝15内に遮光性材料を残すように透光性基材シート10表面の遮光性材料を掻取治具で掻き取り、遮光性材料を硬化させることにより遮光性パターン20を有する光学シート1を製造する方法であって、遮光性材料として透光性基材シート10を膨潤させられるものを使用し、遮光性材料の塗布後硬化までを所定時間とすることにより、前記溝15の少なくとも一部を透光性基材シート10の膨潤により狭める。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

表面に複数の溝が並設されている基材シートの該溝の並設面に充填材料を塗布し、溝内に充填材料を残すように基材シート表面の充填材料を掻取治具で掻き取り、充填材料を硬化させることにより基材シートに充填材料のパターンを形成する方法であって、 充填材料として基材シートを膨潤させられるものを使用し、充填材料の塗布後硬化までを所定時間とすることにより、前記溝の少なくとも一部を基材シートの膨潤により狭めることを特徴とする充填材料のパターンの形成方法。

IPC (3件)：

G02B 5/00 ,  G02B 5/02 ,  G02F 1/133

FI (3件)：

G02B5/00 B ,  G02B5/02 B ,  G02F1/1335

Fターム (21件)：

2H042AA09 ,  2H042AA11 ,  2H042BA03 ,  2H042BA14 ,  2H042BA20 ,  2H091FA21X ,  2H091FA21Z ,  2H091FA34X ,  2H091FA34Z ,  2H091FA50X ,  2H091FA50Z ,  2H091FB02 ,  2H091LA30 ,  2H191FA13X ,  2H191FA13Z ,  2H191FA52X ,  2H191FA52Z ,  2H191FA96X ,  2H191FA96Z ,  2H191FB02 ,  2H191LA40

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭50-092751号公報
  
• 2006-178092号公報