特許

J-GLOBAL ID：200903092636655640

X線露光用マスク構造体およびX線露光装置

発明者： 前原 広 ,  千葉 啓子 ,  宮地 剛司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-319482
公開番号（公開出願番号）：特開平10-163091
出願日： 1996年11月29日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】【課題】 X線露光装置において、倍率補正ができるようにする。また、X線吸収体のパターン歪みの発生を抑制する。【解決手段】 補強体を熱膨張係数の異なる少なくとも2種の材料の貼合わせ構造とし、この補強体の温度を制御できるようにする。これにより、マスク面内のパターン位置を制御できるので、倍率補正性が良好なX線マスク構造体を実現できる。また、保持枠と補強体とを一体化した支持枠として剛性を高めることにより、X線吸収体のパターン歪みの発生が少ないX線マスク構造体を実現できる。

請求項（抜粋）：

X線吸収体と、該X線吸収体を保持するX線透過膜と、該X線透過膜を保持する保持枠と、該保持枠を補強支持する補強体とを有するX線マスク構造体において、該補強体が、熱膨張係数の異なる二層を少なくとも含む多層構造からなることを特徴とするX線マスク構造体。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/02

FI (5件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 531 A