特許

J-GLOBAL ID：200903092640757652

パラジウム除去液およびパジジウムの除去方法

発明者： 近藤 治 ,  渡辺 美泰 ,  石原 福三郎 ,  今井 輝彦
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
代理人 (1件)： 大谷 保
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001006334
公開番号（公開出願番号）：WO2002-008491
出願日： 2001年07月23日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：

【要約】本発明のパラジウム除去液は(a)硝酸塩、(b)パラジウム酸化物を水溶化する水溶化剤および(c)水を含有することを特徴とする。パラジウム除去液は、(d)湿潤剤及び/又は(e)キレート化剤を更に含有することが出来る。本発明のパラジウム除去液は、銅配線を浸蝕することなく、また絶縁性基板表面を粗らすことなく、絶縁性基板の表面に残留するパラジウムを除去することができ、回路パターンの絶縁性を向上させる。

請求項（抜粋）：

(a)硝酸塩、(b)パラジウム酸化物を水溶化する水溶化剤および(c)水を含有することを特徴とするパラジウム除去液。

IPC (8件)：

C23F 1/40 ,  C23F 1/00 ,  C23F 1/00 103 ,  C11D 1/86 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/10 ,  C11D 7/26 ,  C11D 17/08

FI (8件)：

C23F 1/40 ,  C23F 1/00 A ,  C23F 1/00 103 ,  C11D 1/86 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/10 ,  C11D 7/26 ,  C11D 17/08