特許
J-GLOBAL ID：200903092646147210
投影露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-293468
公開番号（公開出願番号）：特開平8-153661
出願日： 1994年11月28日
公開日（公表日）： 1996年06月11日
要約：
【要約】【構成】 wなる開口幅を有するスリット2を通過した照明光Lをフォトマスク4に対してスキャンさせ、該フォトマスク4のパターンを投影光学系5を用いてウェハ7上に投影するに際して、wなる距離だけ照明光Lをスキャンさせる間に、結像面を2μmなる振幅にて1周期だけ変化させる。具体的には、照明ユニット1および投影光学系5とを固定した状態にて、フォトマスク4をx軸方向にwだけ移動させる間に、ウェハ7を該フォトマスク4に同期させてx軸方向に移動させると共に、z軸方向にも2μmなる振幅で1周期移動させる。【効果】 ステップ・アンド・スキャン方式による投影露光にFLEX法が適用でき、露光エリアの拡大と焦点深度の拡大が同時に達成できる。このため、微細化および大口径化される半導体装置を製造するプロセスにおいて、フォトリソグラフィ工程の信頼性が大幅に向上する。
請求項（抜粋）：
スリットを通過した照明光をフォトマスクに対してスキャンさせ、該フォトマスクのパターンを投影光学系を用いて基板上に投影する投影露光方法において、基板上の任意の1地点を複数の結像面により露光することを特徴とする投影露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
