特許
J-GLOBAL ID:200903092671638775

斜め蒸着膜素子およびこれを用いた光学装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 研二 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-186163
公開番号(公開出願番号):特開平10-081955
出願日: 1997年07月11日
公開日(公表日): 1998年03月31日
要約:
【要約】【課題】 斜め蒸着方法によって製造される斜め蒸着膜素子において、斜め蒸着層の白濁化を防止する。【解決手段】 基板10と斜め蒸着層14との間にバッファ層として正面蒸着層12を設けて、基板10上の汚染物質が斜め蒸着層14に拡散することを防ぐ。また、最上層の斜め蒸着層14の上に正面蒸着層16を設け、斜め蒸着層14が大気中の水分を吸収することを防止し、更に、斜め蒸着層14と緻密な正面蒸着層18との複数の積層体を形成して基板10からの汚染物質の拡散と大気中の水分の吸収を防止するだけでなく、各斜め蒸着層自体の強度が高まり、斜め蒸着層の柱状構造の緩和を確実に抑制できる。このように、斜め蒸着層14における柱状構造の緩和を促進する要因を取り除くことにより斜め蒸着膜層14の白濁化が防止される。
請求項(抜粋):
基板上に形成された斜め蒸着層を有する斜め蒸着膜素子であって、前記基板と斜め蒸着層との間、および前記斜め蒸着層上のいずれか一方または両方に正面蒸着層が形成されていることを特徴とする斜め蒸着膜素子。
IPC (4件):
C23C 14/08 ,  C23C 14/00 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/30
FI (5件):
C23C 14/08 G ,  C23C 14/08 J ,  C23C 14/00 ,  G02B 5/30 ,  G02B 1/10 Z

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