特許
J-GLOBAL ID:200903092683020882

未加硫ゴム加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梶 良之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-160799
公開番号(公開出願番号):特開平11-005221
出願日: 1997年06月18日
公開日(公表日): 1999年01月12日
要約:
【要約】【課題】 どのような形状および大きさの未加硫ゴムでも効率よく加熱できる未加硫ゴム加熱装置を提供する。【解決手段】 誘導コイル1を積層体20から離れた位置に設置するとともに、前記誘導コイル1の内周側で発生した磁界を前記積層体20に導く磁気回路手段21を設けてなるものである。
請求項(抜粋):
未加硫ゴムと金属板を交互に積層した積層体に対して、積層方向に交番磁界を浸透させ、積層体内部の金属板にジュール熱を発生させることによって未加硫ゴムの加熱を行う装置であって、積層体から離れた位置に設置された誘導コイルと、該誘導コイルで発生した磁界を積層体の積層方向両端面略中央部に導き、積層方向に交番磁界を浸透させるように閉ループを形成する磁気回路手段を設けてなることを特徴とする未加硫ゴム加熱装置。
IPC (5件):
B29C 35/14 ,  B32B 15/06 ,  B29K 21:00 ,  B29L 9:00 ,  B29L 31:00
FI (2件):
B29C 35/14 ,  B32B 15/06 Z
引用特許:
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る