特許

J-GLOBAL ID：200903092687039820

投影光学系の特性計測方法

発明者： 蛭川 茂
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-037230
公開番号（公開出願番号）：特開平5-206003
出願日： 1992年01月28日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：

【要約】【目的】 新たな投影露光装置に使用される投影光学系の結像特性であっても正確に計測又は予測する。【構成】 投影光学系の瞳面上の各位置ri を通過する光束に関してその投影光学系のフォーカス位置の変化量δfi を予め求めておき(図2(a))、その投影光学系の特性の計測時に、その投影光学系の瞳面上での各位置ri における照度分布Pi を計測し(図2(b))、その予め求めておいたフォーカス位置の変化量とその計測した照度分布との積和演算によりその投影光学系のフォーカス位置の変化量を求める。

請求項（抜粋）：

所定の照明光により照明されたマスクパターンの像を被露光基板上に投影するための投影光学系の特性計測方法において、前記投影光学系の瞳面上の各位置を通過する光束に関して前記投影光学系の像面状態の変化率を予め求めておき、前記投影光学系の特性の計測時に、前記投影光学系の瞳面上での照度分布を計測し、前記予め求めておいた像面状態の変化率及び前記計測した照度分布より前記投影光学系の像面状態を推定する事を特徴とする投影光学系の特性計測方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 G

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平2-297918