特許
J-GLOBAL ID:200903092695311033

触媒反応器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  宍戸 嘉一 ,  弟子丸 健 ,  井野 砂里
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-550829
公開番号(公開出願番号):特表2008-526501
出願日: 2005年12月19日
公開日(公表日): 2008年07月24日
要約:
改質のためのコンパクトな触媒反応器(20)が、交互に配置されていて第1及び第2のガス流を運ぶ多数本の第1及び第2の流れチャネルを備えた反応器モジュール(70)を有し、例えば金属箔の基体を備えた着脱自在なガス透過性触媒構造体(80)が、各流れチャネル内に設けられ、この中で化学反応が起こることになる。反応器は、圧力が周囲圧力よりも高く且つ第2のガス流の圧力以下の第1のガス流に用いられる。反応器モジュール(70)は、プレート(72,74,76)のスタックで形成されるのが良い。モジュール(70)は、圧力容器内に納められ、圧力容器内の圧力は、実質的に第1のガス流の圧力に等しい圧力状態にあるように定められる。その結果、モジュール(70)の部品のうちで張力下にあるものは存在しない。これにより、反応器モジュールの設計が単純化されると共に触媒により占められるその容積の比率が高くなる。
請求項(抜粋):
改質反応のためのコンパクトな触媒反応器であって、反応器モジュールを有し、前記反応器モジュールは、前記モジュール内に交互に配置されていて第1及び第2のガス流を運ぶ多数本の第1及び第2の流れチャネルを備え、前記反応器は、圧力が周囲圧力よりも高く且つ前記第2のガス流の圧力以下の第1のガス流に用いられるのに適しており、化学反応が起こる各流れチャネルは、金属基体を有するガス透過性触媒構造体を収納し、前記反応器モジュールは、圧力容器内に納められ、前記圧力容器内の圧力は、実質的に前記第1のガス流の圧力に等しい圧力状態にあるように定められる、反応器。
IPC (3件):
B01J 19/24 ,  B01J 32/00 ,  C10G 2/00
FI (3件):
B01J19/24 A ,  B01J32/00 ,  C10G2/00
Fターム (20件):
4G075AA05 ,  4G075AA62 ,  4G075BA05 ,  4G075CA02 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EA06 ,  4G075FA01 ,  4G075FB02 ,  4G075FC06 ,  4G075FC09 ,  4G169AA01 ,  4G169AA15 ,  4G169BA17 ,  4G169CC17 ,  4G169CC23 ,  4G169DA06 ,  4H029CA00 ,  4H029DA00
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 国際公開第01/51194号パンフレット
  • 国際公開第03/048034号パンフレット

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