特許

J-GLOBAL ID：200903092696613114

洗浄装置、カートリッジ再生方法、およびカートリッジ

発明者： 室伏 利昭 ,  遠藤 美晴
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (2件)： 山田 正紀 ,  小杉 佳男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-076735
公開番号（公開出願番号）：特開2004-283675
出願日： 2003年03月20日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：

【課題】洗浄物にドライアイス粉体を含むガスを噴射して該洗浄物を洗浄する洗浄装置等に関し、作業環境の悪化を抑え、剛性が低い部材の形状を損なうことなく効率よく洗浄する。【解決手段】ドライアイス粉体を含むガスを噴射する噴射ノズル971と、噴射ノズル971に、ドライアイス粉体およびガスを供給する供給部94,96とを備え、噴射ノズル971が、ドライアイス粉体を含むガスを0.2MPa以上0.5MPa以下の圧力で噴射するものである。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

洗浄物にドライアイス粉体を含むガスを噴射して該洗浄物を洗浄する洗浄装置において、 ドライアイス粉体を含むガスを噴射する噴射ノズルと、 前記噴射ノズルに、ドライアイス粉体およびガスを供給する供給部とを備え、前記噴射ノズルが、ドライアイス粉体を含むガスを0.2MPa以上0.5MPa以下の圧力で噴射するものであることを特徴とする洗浄装置。

IPC (2件)：

B08B5/00 ,  G03G21/18

FI (2件)：

B08B5/00 Z ,  G03G15/00 556

Fターム (32件)：

2H171FA02 ,  2H171FA07 ,  2H171GA19 ,  2H171JA23 ,  2H171JA27 ,  2H171JA29 ,  2H171JA31 ,  2H171JA58 ,  2H171PA12 ,  2H171PA19 ,  2H171PA20 ,  2H171QA02 ,  2H171QA08 ,  2H171QA18 ,  2H171QB03 ,  2H171QB15 ,  2H171QB32 ,  2H171QB35 ,  2H171QC03 ,  2H171QC22 ,  2H171QC36 ,  2H171SA11 ,  2H171SA14 ,  2H171SA22 ,  2H171SA26 ,  2H171UA03 ,  3B116AA47 ,  3B116AB52 ,  3B116BB32 ,  3B116BB36 ,  3B116BB38 ,  3B116BB82