特許

J-GLOBAL ID：200903092700498694

洗浄剤組成物

発明者： 白井 博明 ,  小宮 薫
出願人/特許権者： 旭電化工業株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-088685
公開番号（公開出願番号）：特開2001-271093
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：

【要約】【課題】 安全性が高く、かつ光学部品に塗布されるアスファルトピッチやワックス等の汚れに対して優れた洗浄力を有する、塩素系溶剤に代わる洗浄剤を提供すること。【解決手段】 本発明は、炭素数5以上のα-オレフィンオキサイド、又はこれに更に、テルペン類及び/又は(ポリ)アルキレングリコール低級アルキルエーテルを含有する洗浄剤組成物、特に光学部品用洗浄剤組成物である。本発明の洗浄剤組成物は、レンズやプリズム等の光学部品を加工する際に付着するアスファルトピッチやワックス等の汚れに対して優れた洗浄力を有する。

請求項（抜粋）：

炭素数5以上のα-オレフィンオキサイドを含有する洗浄剤組成物。

IPC (4件)：

C11D 3/20 ,  C11D 3/18 ,  C11D 10/02 ,  G02B 1/10

FI (4件)：

C11D 3/20 ,  C11D 3/18 ,  C11D 10/02 ,  G02B 1/10 Z

Fターム (16件)：

2K009DD02 ,  2K009EE00 ,  4H003AB22 ,  4H003AB31 ,  4H003AC03 ,  4H003AC08 ,  4H003AC11 ,  4H003BA12 ,  4H003DA16 ,  4H003DB01 ,  4H003EB34 ,  4H003ED03 ,  4H003ED29 ,  4H003ED32 ,  4H003FA01 ,  4H003FA03