特許

J-GLOBAL ID：200903092709856992

シス-3,3,5-トリメチルシクロヘキサノールの製造方法

発明者： 高木 恵一 ,  割田 泰裕 ,  伊藤 雅通
出願人/特許権者： 長谷川香料株式会社
代理人 (1件)： 小林 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-311637
公開番号（公開出願番号）：特開平9-124528
出願日： 1995年11月06日
公開日（公表日）： 1997年05月13日
要約：

【要約】【課題】 シス選択性が高く、好収率、好純度にシス-3,3,5-トリメチルシクロヘキサノールを得る方法の提供。【解決手段】 3,3,5-トリメチルシクロヘキサノンまたは3,3,5-トリメチルシクロヘキセノンを接触還元用触媒の存在下に接触水添反応させて得られた反応混合物を、同条件下に反応を継続してシス体リッチの3,3,5-トリメチルシクロヘキサノールを得、ついで酸触媒の存在下に、3,3,5-トリメチルシクロヘキサノールのトランス体を選択的に除去し、シス体の存在比をさらに高めることからなるシス-3,3,5-トリメチルシクロヘキサノールの製造方法。

請求項（抜粋）：

下記aおよびbの工程からなることを特徴とするシス-3,3,5-トリメチルシクロヘキサノールの製造方法、a. 3,3,5-トリメチルシクロヘキサノンまたは3,3,5-トリメチルシクロヘキセノンを接触還元用触媒の存在下に接触水添反応させて得られた反応混合物を、同条件下に反応を継続してシス体リッチの3,3,5-トリメチルシクロヘキサノールを得る工程、b. 酸触媒の存在下に、3,3,5-トリメチルシクロヘキサノールのトランス体を選択的に除去し、シス体の存在比をさらに高める工程。

IPC (6件)：

C07C 35/08 ,  B01J 23/46 301 ,  B01J 31/02 103 ,  C07C 29/145 ,  C07C 29/88 ,  C07B 61/00 300

FI (6件)：

C07C 35/08 ,  B01J 23/46 301 X ,  B01J 31/02 103 Z ,  C07C 29/145 ,  C07C 29/88 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭62-111940
  
• 特公昭47-011744
  
• 特開昭48-004449