特許

J-GLOBAL ID：200903092724826552

低融点ガラスのパターニング方法及び該方法に用いるサンドブラスト用皮膜

発明者： 間瀬 恵二 ,  神田 真治
出願人/特許権者： 株式会社不二製作所
代理人 (1件)： 小倉 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-034758
公開番号（公開出願番号）：特開2000-233948
出願日： 1999年02月12日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：

【要約】【課題】低融点ガラスを効率よく使用して電極又は隔壁等のパターンを形成し、レジストの除去を簡単に行う。【解決手段】無機物及び残渣無く燃焼分解性を有するバインダー樹脂を主成分とする無機ペーストで基板上に形成した皮膜をサンドブラストにてパターニングした凹部に低融点ガラス又は低融点ガラスを含む電極材料を埋め込み、表面の耐サンドブラスト性レジストマスクを剥離し、前記低融点ガラスを焼成し、前記無機物粉末を除去する。

請求項（抜粋）：

無機物及び残渣無く燃焼分解性を有するバインダー樹脂を主成分とする無機ペーストを基板上に塗布、乾燥して皮膜を形成し、この皮膜表面に耐サンドブラスト性レジストマスクでマスキングを行い、サンドブラストにてパターニングした凹部に低融点ガラス又は低融点ガラスを含む電極材料を埋め込み、表面の耐サンドブラスト性レジストマスクを剥離し、前記低融点ガラスを焼成し、前記無機物粉末を除去する工程を含むことを特徴とする低融点ガラスのパターニング方法。

IPC (5件)：

C03C 19/00 ,  B24C 1/04 ,  C03C 17/23 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02

FI (5件)：

C03C 19/00 A ,  B24C 1/04 B ,  C03C 17/23 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B

Fターム (27件)：

4G059AA01 ,  4G059AB06 ,  4G059AB07 ,  4G059AC01 ,  4G059AC08 ,  4G059EA01 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4G059EA11 ,  4G059EB09 ,  5C027AA09 ,  5C040GF19 ,  5C040JA02 ,  5C040JA09 ,  5C040JA15 ,  5C040JA17 ,  5C040JA20 ,  5C040JA21 ,  5C040JA23 ,  5C040KA04 ,  5C040KA08 ,  5C040KA17 ,  5C040KB04 ,  5C040LA17 ,  5C040MA23 ,  5C040MA25 ,  5C040MA26