特許
J-GLOBAL ID：200903092735383652
炭化珪素製治具の洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 道雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-207098
公開番号（公開出願番号）：特開平8-078375
出願日： 1994年08月31日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：
【要約】【目的】半導体の製造の際に用いられる炭化珪素製治具の洗浄方法の提供。【構成】表面に高純度の炭化珪素のコーティング膜を有する半導体製造用の炭化珪素製治具(例えば、気相成長装置等の高温用治具、ボート、サセプタ等)を、それぞれ10体積%以上の硝塩酸水溶液または弗硝酸水溶液に30分以上浸漬する。同時に超音波を付与すればいっそう効果的である。【効果】炭化珪素製治具の表面に付着した金属粒子を炭化珪素の膜を損傷することなく溶解除去することができ、膜におけるピンホールの発生を防止し、治具の使用回数を大幅に増やすことができる。
請求項（抜粋）：
表面に高純度の炭化珪素被膜を有する半導体製造用治具を、それぞれ10体積%以上の硝塩酸水溶液または弗硝酸水溶液に30分以上浸漬することを特徴とする炭化珪素製治具の洗浄方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, B08B 3/08
, H01L 21/68
