噴射システムにおける流体を制御するための電磁弁作動式の制御モジュール

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト , ラインハルト・アインゼル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-534689
公開番号（公開出願番号）：特表2004-511698
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

本発明は、噴射システムにおける流体を制御するための制御モジュールであって、弁ボディ(2)が設けられており、該弁ボディ(2)内に、制御弁(5,17)の弁ニードル(6,24)が収容されており、前記制御弁(5,17)によって、インジェクタに設けられた制御室(30)またはノズル室の圧力増大または放圧に影響が与えられるようになっている形式のものに関する。弁ボディ(2)内の制御弁(5,17)が電磁式に作動可能であり、しかも電磁コイルが、挿嵌エレメント(19,32)に設けられた切欠き(9,20)または弁ボディ(2)自体に設けられた切欠き(9)内に収容されている。

請求項（抜粋）：

噴射システムにおける流体を制御するための制御モジュールであって、弁ボディ(2)が設けられており、該弁ボディ(2)内に、制御弁(5,17)の弁ニードル(6,24)が収容されており、前記制御弁(5,17)によって、インジェクタに設けられた制御室(30)またはノズル室の圧力増大または放圧に影響が与えられるようになっている形式のものにおいて、弁ボディ(2)内の制御弁(5,17)が電磁式に作動可能であり、しかも電磁コイルが、弁ボディ(2)に設けられた切欠き(9)または弁ボディ(2)に挿嵌された挿嵌エレメント(19,32)に設けられた切欠き(9,20)内に収容されていることを特徴とする、噴射システムにおける流体を制御するための制御モジュール。

IPC (2件)：

F02M47/00 , F02M51/06

FI (3件)：

F02M47/00 F , F02M47/00 A , F02M51/06 A

Fターム (14件)：

3G066AD07 , 3G066BA66 , 3G066BA67 , 3G066CC05T , 3G066CC08T , 3G066CC14 , 3G066CC63 , 3G066CC68U , 3G066CD26 , 3G066CE13 , 3G066CE22 , 3G066CE31 , 3G066CE34 , 3G066CE35

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