特許
J-GLOBAL ID：200903092765654251
気化装置及びCVD装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-313593
公開番号（公開出願番号）：特開平10-152779
出願日： 1996年11月25日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：
【要約】【課題】 経時変化を伴わず且つ安定した気化原料を生成できると共に、汎用的で高品質な成膜ができるようにする。【解決手段】 気化原料を生成するための筐体11には、その一方の側壁に、液体原料から径が平均100μm程度の霧状の液滴12を生成する噴霧器13と、生成された液滴12又は気化原料14を搬送するための化学的に不活性なガスよりなる搬送用ガス15を筐体11内に供給する搬送用ガス供給管16とが設けられている。対向する他方の側壁には、搬送用ガス15に混合された気化原料14を搬送する気化原料搬送管17が設けられている。筐体11内の上部には、霧状の液滴12にマイクロ波18を発振し、液滴12を構成する分子に振動を生じさせて加熱することにより気化原料14を生成するマイクロ波発振器19が設けられている。
請求項（抜粋）：
液体原料が供給され、供給された液体原料を霧状の液滴にする噴霧器と、前記液滴にマイクロ波を発振し、前記液滴を構成する分子に振動を生じさせて加熱することにより、気化原料を生成するマイクロ波発振器とを備えていることを特徴とする気化装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/44 C
, H01L 21/205
