ガスハイドレート脱水装置及び多段ガスハイドレート脱水装置

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤田考晴 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-095994
公開番号（公開出願番号）：特開2001-279278
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：

【要約】【課題】未反応である水とハイドレート形成物質とを水和させることで、ガスハイドレートの生成効率を高めるとともに脱水効率を高めることのできる、ガスハイドレート脱水装置又は多段ガスハイドレート脱水装置を提供する。【解決手段】ガスハイドレート脱水装置3を、装置本体11と、装置本体11内に、未反応の水及び未反応のハイドレート形成物質とともにガスハイドレートを導入する導入側管路12と、装置本体11内のガスハイドレートを抜き出す抜出側管路13と、装置本体11内に導入されたガスハイドレート、水及びハイドレート形成物質を攪拌させるとともに抜出側管路13まで送る送り機構14と、を備えるように構成した。

請求項（抜粋）：

ハイドレート形成物質を含むガスを水和させて生成されたガスハイドレートの脱水処理を行うための装置であって、装置本体と、該装置本体内に、未反応の水及び未反応のハイドレート形成物質とともにガスハイドレートを導入する導入側管路と、前記装置本体内のガスハイドレートを抜き出す抜出側管路と、前記装置本体内に導入された前記ガスハイドレート、前記水及び前記ハイドレート形成物質を攪拌させるとともに前記抜出側管路まで送る送り機構と、を備えたことを特徴とするガスハイドレート脱水装置。

IPC (8件)：

C10L 3/06 , B01D 7/02 , B01J 19/00 , C07B 61/00 , C07B 63/02 , C07C 5/00 , C07C 7/20 , C07C 9/04

FI (8件)：

B01D 7/02 , B01J 19/00 A , C07B 61/00 C , C07B 63/02 B , C07C 5/00 , C07C 7/20 , C07C 9/04 , C10L 3/00 A

Fターム (22件)：

4D076AA02 , 4D076AA13 , 4D076BD07 , 4D076HA16 , 4D076JA01 , 4D076JA04 , 4G075AA03 , 4G075AA15 , 4G075AA35 , 4G075AA63 , 4G075BB04 , 4G075BD13 , 4G075CA03 , 4G075CA05 , 4H006AA04 , 4H006AC90 , 4H006AC93 , 4H006AD33 , 4H006BD60 , 4H006BD81 , 4H006BD82 , 4H006BE60

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