特許

J-GLOBAL ID：200903092770881711

光デイスクの複製方法

発明者： 佐藤 和洋
出願人/特許権者： 日本ビクター株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-181643
公開番号（公開出願番号）：特開平5-002784
出願日： 1991年06月27日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：

【要約】【目的】 複製の各工程を分離することにより工程の短サイクル化を図り、生産性を向上させる。【構成】 光ディスクを複製するに際して、放射線透過性基板2の表面に放射線硬化樹脂6を塗布し、この樹脂6に放射線8を照射することによりこれを半硬化させる。次いで、半硬化した樹脂6上にスタンパ10を圧着してスタンパ情報を転写し、スタンパ10の剥離後、再度、この樹脂6に放射線8を照射してこれを完全に硬化させる。

請求項（抜粋）：

円形の放射線透過性基板の表面に放射線硬化樹脂を塗布する第1の工程と、前記塗布された放射線硬化樹脂に放射線を照射することによりこれを半硬化させる第2の工程と、前記半硬化された放射線硬化樹脂の表面に、予め情報が形成されたスタンパを圧着することにより前記情報を転写する第3の工程と、前記情報が転写された半硬化状態の放射線硬化樹脂に放射線を照射することによりこれを完全に硬化させる第4の工程とを備えるように構成したことを特徴とする光ディスクの複製方法。