特許

J-GLOBAL ID：200903092778841310

半導体製造装置のウェハ処理制御装置及びウェハのレシピ選択方法

発明者： 山本 真一郎 ,  山田 正吾 ,  山本 伸彦
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-017329
公開番号（公開出願番号）：特開平8-213295
出願日： 1995年02月03日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：

【要約】【目的】 正しいレシピを確実に選択して不良ウェハの発生を回避し、レシピ選択のためのデータ設定に要する時間を大幅に短縮して生産性を向上させる。【構成】 各レシピのデータをテーブル形式の1つのファイルとしてレシピID別に第1テーブル111 に格納し、またカセット内の各ウェハを特定するデータと、各ウェハに適用すべきレシピのレシピIDとを対応付けてテーブル形式の1つのファイルとしてカセットID別に第2テーブル112 に格納する記憶装置11と、カセットIDを設定する操作パネル13と、操作パネル13より設定されるカセットIDを基に記憶装置11内の第2テーブル112 から適用すべきレシピのレシピIDを検索し、検索したレシピIDを基に第1テーブル111 からレシピを検索して読み出し、読み出したレシピに従って半導体製造装置2におけるウェハの処理を制御する制御装置12とから構成される。

請求項（抜粋）：

カセットに格納された複数枚のウェハそれぞれの処理条件が記述されているレシピを選択し、選択したレシピに従って半導体製造装置による各ウェハの処理を制御する装置において、複数のレシピと該複数のレシピをそれぞれ特定するデータとを対応付けて記憶した第1のテーブル、及び各カセットを特定するデータと該各カセットに格納されるべき各ウェハを特定するデータと各ウェハに対応する各レシピを特定するデータとを対応付けて記憶した第2のテーブルとを有する記憶手段と、処理の開始時にカセットを特定するデータを指定する手段と、指定されたカセットに格納されるべき複数のウェハそれぞれに適用すべきレシピを特定するデータを第2のテーブルから読み出し、該レシピを特定するデータに対応するレシピを第1のテーブルから選択して読み出す手段とを備えたことを特徴とする半導体製造装置のウェハ処理制御装置。