特許

J-GLOBAL ID：200903092782395472

基板の洗浄装置

発明者： 西村 譲一 ,  佐々木 忠司
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-294921
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115870
出願日： 1995年10月16日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：

【要約】【課題】 洗浄液の吐出圧力を作業者の手間をかけずに自動的に管理できるようにし、洗浄精度を一定に保って各基板の洗浄を行なえるようにする。【解決手段】 CPU12が、記憶手段に記憶された洗浄液の所望の吐出圧力の値と、センサ11により検知された実際の洗浄液の吐出圧力の値とを比較して、ノズルチップ20から実際に吐出される洗浄液の吐出圧力が所望の吐出圧力となるように洗浄液の高圧圧縮ポンプ60を制御する。

請求項（抜粋）：

洗浄液を供給駆動手段によって吐出ノズルへ供給し、その吐出ノズルから基板の表面へ高圧で吐出して基板表面を洗浄するようにした基板の洗浄装置において、前記吐出ノズルから吐出される洗浄液の所望の吐出圧力の値を設定入力するための入力手段と、前記入力手段から入力された洗浄液の吐出圧力の値を記憶する記憶手段と、前記吐出ノズルから吐出された実際の洗浄液の吐出圧力の値を検知する吐出圧力検知手段と、前記記憶手段に記憶された洗浄液の吐出圧力の値と、前記吐出圧力検知手段で検知された実際の洗浄液の吐出圧力の値とを比較し、前記吐出ノズルから吐出される洗浄液の吐出圧力が所望の吐出圧力となるように洗浄液の前記供給駆動手段を制御する制御手段とを備えたことを特徴をする基板の洗浄装置。