特許

J-GLOBAL ID：200903092786410450

順次式プラズマ処理方法及び装置

発明者： コルポ、パスカル ,  ロッシ、フランソワ
出願人/特許権者： ヨーロピアン コミュニティ (イーシー)
代理人 (2件)： 浜本 忠 ,  佐藤 嘉明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-585697
公開番号（公開出願番号）：特表2004-533316
出願日： 2002年04月24日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

全てが処理対象の基体部分に沿った、相互に隣接配列された複数のイオン化エネルギー源(7-10)を含む非導電性中空基体のプラズマ処理装置。本装置にはさらに前記複数のイオン化エネルギー源へ無線周波動力源(6)から順次動力供給する処理手段(11)が含まれている。各イオン化エネルギー源(7)は前記基体を間に挟む2つの部分(7a、7b)から構成される。イオン化エネルギー源は容量結合型あるいは誘導結合型プラズマ源である。

請求項（抜粋）：

a)処理対象の基体部分に沿って複数のイオン化エネルギー源(7-10;107-112)全てを配置する工程、 b)前記基体の内部へプラズマ生成のための前駆物質を含有するプロセスガスを注入する工程、 c)チューブ内圧を所定範囲内に維持する工程、及び d)各イオン化エネルギー源が動力供給を受ける位置において、前記基体内部に選択的にプラズマを生成するため順次イオン化エネルギー源へ動力供給する工程から構成され、及び前記プロセスガスを注入する工程b)が少なくとも各イオン化エネルギー源への動力供給前に反復されることを特徴とする中空基体(1:10)のプラズマ処理方法。

IPC (3件)：

B01J19/08 ,  H05H1/24 ,  H05H1/46

FI (4件)：

B01J19/08 E ,  H05H1/24 ,  H05H1/46 L ,  A61J1/00 330Z

Fターム (16件)：

4C167AA01 ,  4C167BB06 ,  4C167BB41 ,  4C167BB46 ,  4C167FF01 ,  4C167HH30 ,  4G075AA29 ,  4G075AA30 ,  4G075AA32 ,  4G075BA05 ,  4G075BA08 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075FC15