特許
J-GLOBAL ID:200903092793514627

マスク

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 白井 重隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-091557
公開番号(公開出願番号):特開平5-261163
出願日: 1992年03月18日
公開日(公表日): 1993年10月12日
要約:
【要約】【目的】 繊維から塵の出ないマスクを作る。【構成】 単糸繊度が1.5〜5.0デニールであるアセチルセルロース長繊維を構成素材とする目付30〜200g/m2 の不織布を基材とするマスク。
請求項(抜粋):
単糸繊度が1.5〜50デニールであるアセチルセルロース長繊維を構成素材とする目付30〜200g/m2 の不織布を基材とするマスク。

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