特許
J-GLOBAL ID：200903092803169184
微細組織厚膜材料の製造法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
和田 憲治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-329331
公開番号（公開出願番号）：特開平8-158033
出願日： 1994年12月02日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：
【要約】【目的】 均一な微細組織をもつ比較的厚い膜の形成を超微粒子の製造と同時に行なう。【構成】 不活性ガスと水素ガスの混合ガスを利用した高周波プラズマトーチをそのプラズマフレームが炉内に放射するように取り付けたプラズマ炉において,該プラズマトーチで発生するプラズマ中に粉状原料を投入して該原料をガス化し,このガス化した成分を互いに会合させて粒径が1μm以下の超微粒子を該プラズマ炉内で生成させ,この超微粒子を同伴した炉内のエアロゾルをノズルから噴流として噴射させ,このエアロゾルの噴射流を基板上に投射することにより該基板上に超微粒子の付着層を形成し,この付着層を焼結することからなる微細組織厚膜材料の製造法。
請求項（抜粋）：
不活性ガスと水素ガスの混合ガスを利用した高周波プラズマトーチをそのプラズマフレームが炉内に放射するように取り付けたプラズマ炉において,該プラズマトーチで発生するプラズマ中に粉状原料を投入して該原料をガス化し,このガス化した成分を互いに会合させて粒径が1μm以下の超微粒子を該プラズマ炉内で生成させ,この超微粒子を同伴した炉内のエアロゾルをノズルから噴流として噴射させ,このエアロゾルの噴射流を基板上に投射することにより該基板上に超微粒子の付着層を形成し,この付着層を焼結することからなる微細組織厚膜材料の製造法。
引用特許：
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