特許

J-GLOBAL ID：200903092808166094

カビ取り剤組成物

発明者： 西野 隆司 ,  山本 信之 ,  岸 実 ,  小野 淳二
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-062273
公開番号（公開出願番号）：特開平10-245310
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：

【要約】【課題】 使用時に有害なガスの発生がなく、しかも刺激臭が無く、カビ取り剤として単独で用いて十分にカビの除去に適したカビ取り剤組成物を提供する。【解決手段】 (A)ペルオキシ化合物及び(B)金属錯体を含有し、しかも該金属錯体が下記一般式(1)で表されるものとする。[式中、MはII〜IV価の遷移金属。nは1〜8、mは1〜4の整数。Dは配位種又は架橋種。pは0〜8の整数。Eは対イオンで、錯体の電荷zに依存する。qはz/(Eの電荷)。Lは、配位性窒素原子を有するリガンド。]

請求項（抜粋）：

(A)ペルオキシ化合物及び(B)金属錯体を含有し、しかも該金属錯体が下記一般式(1)で表される化合物であることを特徴とするカビ取り剤組成物。【化1】[式中、MはV、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Mo、Ru、Rh、Pd、W、Reより選ばれるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物である。nは1〜8の、mは1〜4の整数である。Dは配位種又は架橋種を表す。pは0〜8の整数である。Eは対イオンであって、その種類は正、0若しくは負であり得る錯体の電荷zに依存するものである。qはz/(Eの電荷)である。Lは、配位性窒素原子を有するリガンドを表し、その代表的な構造は、下記一般式(2)乃至(10)のいずれかにより表される。【化2】【化3】【化4】【化5】【化6】【化7】【化8】【化9】【化10】(式中、R1、R2、R3、R4は水素原子若しくは任意に置換されたアルキル基又はアリール基であり、Xは水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、四級アンモニウム基、ピリジニウム基、チエニル基、スルホン酸基、カルボン酸基、若しくは水酸基、又はそれらによって置換されたアルキル基若しくはアリール基であり、s及びtは0〜8の整数である。)]

IPC (3件)：

A01N 55/02 ,  A01N 59/00 ,  C11D 3/28

FI (5件)：

A01N 55/02 A ,  A01N 55/02 G ,  A01N 59/00 A ,  A01N 59/00 C ,  C11D 3/28