特許
J-GLOBAL ID：200903092812233880
エッチング処理液の制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-199648
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163509
出願日： 1992年07月27日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：
【要約】【目的】 プロセス中のエッチング処理液を精度および正確度高く、エッチング処理液使用量を節減しながら、制御することができる。【構成】 測定容器にエッチング処理液を抜き出し、試薬を供給してエッチング処理液と被エッチング材との反応生成物の濃度およびエッチング処理液の組成成分濃度を測定する測定過程、測定過程によって測定した反応生成物濃度が所定濃度以上である場合には、プロセス中のエッチング処理液の全部または一部を抜き出し、新たなエッチング処理液を注入する交換過程、測定過程によって測定したエッチング処理液の組成成分が予め設定した所定濃度より小さい場合には、少なくとも所定濃度よりの減少濃度を補うように組成成分を補充する注入過程、より成ることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
プロセス中のエッチング処理液を制御する方法であって、(I)測定容器にエッチング処理液を抜き出し、試薬を供給してエッチング処理液と被エッチング材との反応生成物の濃度およびエッチング処理液の組成成分濃度を測定する測定過程、(II)測定過程によって測定した反応生成物濃度が所定濃度以上である場合には、プロセス中のエッチング処理液の全部または一部を抜き出し、新たなエッチング処理液を注入する交換過程、(III)測定過程によって測定したエッチング処理液の組成成分濃度が予め設定した所定濃度より小さい場合には、少なくとも所定濃度よりの減少濃度を補うように組成成分を補充する注入過程、より成ることを特徴とするプロセス中のエッチング処理液の制御方法。
IPC (3件)：
H01L 21/306
, G01N 31/16
, G01N 31/22 122
