特許

J-GLOBAL ID：200903092820425470

投影リソグラフィシステム用の透過マスク及びマスク露光システム

発明者： ドクター ハンス レシュナー ,  ドクター エルンスト ハオゲネーダー ,  ジョセフ ルッツ
出願人/特許権者： アイエムエス-イオネン ミクロファブリカツィオーン ズィステーメ ゲエムベハー
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-141043
公開番号（公開出願番号）：特開2000-349023
出願日： 2000年05月15日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】 投影リソグラフィシステム用の透過マスクの熱安定性が改善されたマスク露光システム及び方法を提供する。【解決手段】 成形放射ビーム(EB)の光路を取り囲むと共にマスク(MK)からの熱放射を吸収するための吸収面を有する放射冷却手段(CL)と放射シールド手段(RS)を設け、該放射シールド手段(RS)を該マスクの動作温度に保持し、該放射シールド手段に該マスクが露光位置に位置決めされたとき所定の距離(d1)以内の距離で該マスクに対面する吸収面を設け、該放射冷却手段(CL)を該動作温度以下の温度に保持し、該マスクと反対側に該放射シールド手段(RS)と近接させて配置し、該マスクが露光位置に位置決めされ該ビームによって照射されたとき該マスクの照射部分(RM)に対面する吸収面を設ける。

請求項（抜粋）：

相当なエネルギーの放射線の成形ビーム(EB)の経路を横切る少なくとも1つの所定の露光位置に透過マスク(MK)を位置決めするための位置決め手段を具備した投影リソグラフィシステム用のマスク露光システムにおいて:該ビームの光路(EB)を取り囲むと共に、該マスク(MK)からの熱放射を吸収するための吸収面を有する放射冷却手段(CL)及び放射シールド手段(RS)を具備し、該放射シールド手段(RS)が該マスクの動作温度に保持され、かつ該マスクが露光位置に位置決めされたとき所定の距離(d1)以内の距離で該マスクに対面する吸収面を有し、該放射冷却手段(CL)が、該動作温度以下の温度に保持される共に、該マスクと反対側に該放射シールド手段(RS)と近接させて配置され、該マスクが露光位置に位置決めされ該ビームによって照射されたとき該マスク(MK)の照射部分(RM)に対面する吸収面を有する、ことを特徴とするマスク露光システム。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 504

FI (6件)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 1/16 A ,  G03F 1/16 B ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 531 M