特許

J-GLOBAL ID：200903092826899147

ビニル4-テトラヒドロピラニルオキシベンザル-ビニルテトラヒドロピラニルエーテル-ビニルアセテート共重合体、ビニル4-テトラヒドロピラニルオキシベンザル-ビニル4-ヒドロキシベンザル-ビニルテトラヒドロピラニルエーテル-ビニルアセテート共重合体、これらの製造方法、及びフォトレジスト

発明者： 金 鎭伯 ,  金 賢友 ,  金 鎭▲しゅく▼
出願人/特許権者： 現代電子産業株式会社 ,  韓国科学技術院
代理人 (1件)： 荒船 博司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-074120
公開番号（公開出願番号）：特開平10-182744
出願日： 1997年03月26日
公開日（公表日）： 1998年07月07日
要約：

【要約】【課題】 新規なビニルアセテート共重合体、前記共重合体を製造する方法、及び前記共重合体を含有するフォトレジストを提供する。【解決手段】 一般式(I)で表わされるビニル4-テトラヒドロピラニルオキシベンザル-ビニルテトラヒドロピラニルエーテル-ビニルアセテート共重合体、及びこの共重合体を含有するフォトレジストである。【化1】(式中、xは、5〜70モル%で、yは、1〜60モル%であり、さらにzは、0〜40モル%である。)また、前記共重合体は、ビニル4-ヒドロキシベンザル-ビニルアルコール-ビニルアセテート共重合体から製造する。

請求項（抜粋）：

一般式(I)で表わされ、それぞれの鎖は規則的、又は不規則的に構成されたビニル4-テトラヒドロピラニルオキシベンザル-ビニルテトラヒドロピラニルエーテル-ビニルアセテート共重合体。【化1】(式中、xは、5〜70モル%で、yは、1〜60モル%であり、さらにzは、0〜40モル%である。)

IPC (4件)：

C08F 16/38 ,  C08F 8/00 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/039 601

FI (4件)：

C08F 16/38 ,  C08F 8/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R