特許

J-GLOBAL ID：200903092831474170

マスクの検査方法および装置

発明者： 山梨 弘将 ,  伊東 昌昭 ,  老泉 博昭
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-022919
公開番号（公開出願番号）：特開平11-219891
出願日： 1998年02月04日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】【課題】X線縮小露光用マスクの欠陥を精度よく検出する。【解決手段】X線縮小露光を行うときと同じNA,σ値,波長でマスクを照明し、結像させてマスク検査を行う。

請求項（抜粋）：

X線縮小露光用マスクを検査するマスク検査方法において、X線縮小露光を行うときと同じNA,σ値,波長で前記マスクが照明・結像されていることを特徴とするマスク検査方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01N 23/20 ,  G03F 1/16 ,  G21K 5/02

FI (5件)：

H01L 21/30 502 V ,  G01N 23/20 ,  G03F 1/16 F ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 527