特許
J-GLOBAL ID:200903092831785834
電解質薄膜およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
久保田 耕平 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-016563
公開番号(公開出願番号):特開平5-217416
出願日: 1992年01月31日
公開日(公表日): 1993年08月27日
要約:
【要約】【目的】 ポリエーテル系重合体の網状高分子中にイオン導電体を含有する電解質薄膜の膜強度を改良すること。【構成】 ポリエーテル系重合体の網状分子と該ポリエーテル系重合体網状分子より破断強度の大きい連続空孔性固体高分子(好ましくは延伸ポリオレフィン薄膜)とが絡み合って構成された固体高分子多孔性薄膜中にイオン導電体を含有して成る電解質薄膜。連続空孔性固体高分子の空孔中に、ビニル重合可能基を有するポリエーテル系化合物とイオン導電体を含む電解質溶液を含浸し、ビニル重合可能基を有するポリエーテル系化合物を(好ましくは紫外線照射して)重合させて製造する。
請求項(抜粋):
ポリエーテル系重合体の網状分子と該ポリエーテル系重合体網状分子より破断強度の大きい連続空孔性固体高分子とが絡み合って構成された固体高分子多孔性薄膜中にイオン導電体を含有して成ることを特徴とする電解質薄膜。
IPC (9件):
H01B 1/06
, C08J 5/18 CEZ
, C08K 3/10
, C08K 3/30
, C08K 3/32
, C08K 3/38
, C08K 5/42
, C08L 71/02 LQC
, C08L 71/02 LQE
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