特許
J-GLOBAL ID：200903092840909953
磁気抵抗効果ヘッド及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-046613
公開番号（公開出願番号）：特開平10-241122
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：
【要約】【課題】MR素子形成面とモニター素子形成面に生じる段差を解消することによりMRヘッドの加工精度を向上させる。【解決手段】下部シールド磁性体11をパターニングする際のマスクに、ステンシル形状を有するフォトレジストを使用し、マスクされた以外の場所をイオンミリング等により除去後、下部シールド磁性体11と絶縁膜25の高さが等しくなるように絶縁膜25を成膜し、リフトオフすることにより、段差を下部シールド磁性体11の膜厚の1/10以下に低減することができる。
請求項（抜粋）：
少なくとも基板、第1の絶縁膜、パターン状の下部シールド、下層ギャップ膜、磁気抵抗効果素子(以下、MR素子)、上層ギャップ膜、および上部シールドが順次積層されてなる磁気抵抗効果ヘッドであって、前記下部シールドの存在しない領域には前記第1の絶縁膜の上に第2の絶縁膜、前記下層ギャップ膜、製造時に抵抗値を測定するためのモニター素子が順次積層して形成され、前記モニター素子を形成する前記下層ギャップ膜の面の前記基板の面からの高さと、前記MR素子を形成する前記下層ギャップ膜の面の前記基板の面からの高さはほぼ等しいことを特徴とする磁気抵抗効果ヘッド。
引用特許：
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