特許
J-GLOBAL ID:200903092841842216

ハイドロタルサイトの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 羽鳥 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-120274
公開番号(公開出願番号):特開平6-329410
出願日: 1993年05月21日
公開日(公表日): 1994年11月29日
要約:
【要約】【目的】 制酸剤または樹脂用添加剤として有用であり、常温で副生物が少なく、安価に供給できるハイドロタルサイトの製造方法の提供。【構成】 ハイドロタルサイトを水溶媒中で製造する方法において、マグネシウム源の全部または一部に水酸化マグネシウムを用いることを特徴とする下記〔化1〕の一般式で表されるハイドロタルサイトの製造方法。【化1】
請求項(抜粋):
ハイドロタルサイトを水溶媒中で製造する方法において、マグネシウム源の全部または一部に水酸化マグネシウムを用いることを特徴とするハイドロタルサイトの製造方法。
引用特許:
審査官引用 (12件)
  • 特公昭46-002280
  • 特公昭49-003760
  • 特開昭54-145223
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